特許
J-GLOBAL ID:200903077652723622

高純度な二酸化塩素水性組成物、その製造方法及び製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 的場 基憲
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-268221
公開番号(公開出願番号):特開平11-092104
出願日: 1997年09月16日
公開日(公表日): 1999年04月06日
要約:
【要約】【課題】 副生塩素を微量しか含有せず、ガスアウトが少なく、低コストで安全性が高く、しかも簡便な操作で得られる二酸化塩素水性組成物、その製造方法及び製造装置の提供。【解決手段】 溶存二酸化塩素量に対し、副生塩素量が1.15%以下の二酸化塩素水性組成物である。亜塩素酸塩溶液、次亜塩素酸塩溶液及び酸溶液の3液原料薬液、又は反応促進剤を含む亜塩素酸塩溶液及び酸溶液の2液原料薬液を、ほぼ常圧下における静的な撹拌下に清水に混合・反応させる製造方法である。製造装置は、ブロワー1、均圧タンク2、タンク4及び5を備える薬液供給システムと、反応器9と、希釈器10と、レシーバータンク11とを有する。タンク4、5からの薬液は反応器9で静的且つ均一に混合され、二酸化塩素を生成する。反応液は希釈器10の直前で清水と合流した後、均一に希釈され、所望濃度の二酸化塩素水とされ、レシーバータンク11に貯蔵される。
請求項(抜粋):
溶存する二酸化塩素量に対し、溶存する副生塩素の含有量が1.15重量%以下であることを特徴とする高純度な二酸化塩素の水性組成物。
IPC (2件):
C01B 11/02 ,  A01N 59/08
FI (3件):
C01B 11/02 B ,  C01B 11/02 F ,  A01N 59/08 A
引用特許:
審査官引用 (2件)

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