特許

J-GLOBAL ID：200903077659904355

濃度分布マスクの製造方法

発明者： 梅木 和博 ,  半田 卓也 ,  大森 憲孝
出願人/特許権者： リコー光学株式会社
代理人 (1件)： 野口 繁雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-132775
公開番号（公開出願番号）：特開2001-312042
出願日： 2000年05月01日
公開日（公表日）： 2001年11月09日
要約：

【要約】【課題】 濃度分布マスク設計を標準化し、効率化する。【解決手段】 テストパターンマスクを用いて光照射量とレジスト除去量の関係を把握し、(5)式の関係を得る。それを基に単位セル寸法等のマスク設計手法を変更したモデルレチクルマスクを設計し、加工プロセス条件を一定としてサンプルマスクを製作し、その感度特性を測定する。次いで加工プロセス条件を変更したモデルレチクルマスクを設計し、サンプルマスクを製作し、その感度特性を測定する。各因子毎に得られた感度曲線を(16)式に基づいて数式化し、因子と係数の関係を求める。次いで、製作した形状の内で、目的とする形状に最も近い形状を選び出し、製作しやすい理想とする感度曲線を仮定し、この感度曲線を最もよく実現するプロセス条件及びマスク設計手法を選択する。そのプロセス条件とマスク設計手法から実現できる感度曲線を数式化し、その感度曲線を基にマスクを設計する。

請求項（抜粋）：

基板上に3次元構造の感光性材料パターンを形成し、その感光性材料パターンを前記基板に彫り写すことにより3次元構造の表面形状をもつ物品を製造する際に、前記感光性材料パターンを形成するための露光に用いる2次元の光強度分布を有する濃度分布マスクを製造する方法において、その濃度分布マスクの2次元の光強度分布パターンを次のステップ(A)から(C)を含んで設計することを特徴とする濃度分布マスクの製造方法。(A)濃度分布マスクを単位セルに分割するステップ。(B)少なくとも加工プロセス条件及び感光性材料の感度を含んで決定される前記感光性材料の感度曲線を数式化するステップ。(C)形成しようとする前記感光性材料パターン及び前記ステップ(B)で数式化された感度曲線に基づいて前記単位セルそれぞれの光透過領域又は遮光領域を決定するステップ。

Fターム (4件)：

2H095BA12 ,  2H095BB01 ,  2H095BB08 ,  2H095BB31