特許
J-GLOBAL ID：200903077681086259
微細パタン投影露光方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-157401
公開番号（公開出願番号）：特開平5-029190
出願日： 1991年06月03日
公開日（公表日）： 1993年02月05日
要約：
【要約】【目的】 マスクパタンに対し、位相シフト膜を用いずに、線状パタンに対する位相シフトマスク法と同等の解像度を投影レンズによる結像系に付与する。【構成】 マスクMを照射する照射光Iに光軸zに対し傾きを与えて、その傾きの値を投影レンズの基本諸量に対応して設定するようにする。これにより、投影レンズの最高の解像度で結像させることができる。しかも、位相シフトマスクを用いることなく、位相シフトマスク法と同等の解像度を任意のパタンに対して達成できる。
請求項（抜粋）：
パタンの描かれた物面マスクを照射する光線に対して、投影レンズの開口数に対応した角度の傾きを光軸に対し与えることを特徴とする微細パタン投影露光方法。
引用特許：
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