特許
J-GLOBAL ID：200903077682664990
酸化物陰極、酸化物陰極の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岩橋 文雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-315185
公開番号（公開出願番号）：特開2001-135220
出願日： 1999年11月05日
公開日（公表日）： 2001年05月18日
要約：
【要約】【課題】 最適な電子放射性能およびカットオフ電圧変動を実用使用時間10000時間後で-3〔%〕程度に抑えるようにした陰極線管用陰極を提供する。【解決手段】 還元性元素を含む基体上に電子放射物質層が形成され、エージング工程を経た後に前記電子放射物質層の初期の厚みに対する収縮率が5〔%〕以上である陰極の製造方法であって、エージング工程における陰極の温度を1020〔°C〕以上1100〔°C〕以下とする。
請求項（抜粋）：
還元性元素を含む基体上に電子放射物質層が形成された酸化物陰極であって、エージング工程後における前記電子放射物質層の厚さの収縮率がエージング工程前に対して5〔%〕以上であることを特徴とする陰極。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01J 1/20 G
, H01J 9/44 A
