特許

J-GLOBAL ID：200903077694361887

インクジェット記録ヘッドの製造方法

発明者： 小林 順一
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 丹羽 宏之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-298762
公開番号（公開出願番号）：特開平10-138497
出願日： 1996年11月11日
公開日（公表日）： 1998年05月26日
要約：

【要約】【課題】 Si基板裏面の耐エッチングマスクのキズ部分のエッチングによりインク供給口とその周辺に欠陥が発生するのを、簡単かつ容易に、しかも安価に、防止できるようにする。【解決手段】 Si基板1の一方の面に形成されたインク吐出発生素子2に対応する位置に形成されたインク吐出口9とこれに通じるインク流路に連通するインク供給口10を、前記Si基板1に、同Si基板1の他方の面に設けた耐エッチングマスク側よりSi異方性エッチング技術により形成する際に、前記耐エッチングマスクのキズ20,21を補修することを特徴とするインクジェット記録ヘッドの製造方法。

請求項（抜粋）：

Si基板の一方の面に形成されたインク吐出発生素子に対応する位置に形成されたインク吐出口とこれに通じるインク流路に連通するインク供給口を、前記Si基板に、同Si基板の他方の面に設けた耐エッチングマスク側よりSi異方性エッチング技術により形成する際に、前記耐エッチングマスクのキズをあらかじめ補修することを特徴とするインクジェット記録ヘッドの製造方法。