特許
J-GLOBAL ID：200903077695778528
太陽電池の製法及びこの製法で得られる製品
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
白浜 吉治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-034083
公開番号（公開出願番号）：特開平8-335711
出願日： 1996年02月21日
公開日（公表日）： 1996年12月17日
要約：
【要約】【課題】電気接点が低直列抵抗を示す太陽電池を提供する。【解決手段】半導体基板上の互いに平行な細いフィンガーライン列とこのフィンガーライン列と実質的に直交して形成された幅の広いコレクタライン列から成る前面接点パターンを太陽電池に形成する方法が、少なくとも次のステップを含む。(a)接点を構成するフィンガーライン列(6)をスクリーンプリントし、乾燥させ、(b)次いで、フィンガーライン列(6)の上に幅の広いコレクタライン列(7)をプリントし、乾燥させ、(c)最後に、フィンガーライン列及びコレクタライン列を一緒に焼成することにより、フィンガーライン列(6)と半導体基板(1)との間及びフィンガーライン列(6)と幅の広いコレクタライン列(7)との間にオーミック接触を形成する。
請求項（抜粋）：
半導体基板上の互いに平行な細いフィンガーライン列と、このフィンガーライン列と実質的に直交して形成された幅の広いコレクタライン列とから成る前面接点パターンを太陽電池に形成する方法において、前記方法が、少なくとも(a)接点を構成するフィンガーライン列をスクリーンプリントし、乾燥させ;(b)次いで、フィンガーライン列の上に幅の広いコレクタライン列をプリントし、乾燥させ;(c)最後に、フィンガーライン列及びコレクタライン列を一緒に焼成することにより、フィンガーライン列と半導体基板との間及びフィンガーライン列と幅の広いコレクタライン列との間にオーミック接触を形成する、ステップから成ることを特徴とする前記方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 31/04 H
, H05K 3/12 B
