特許

J-GLOBAL ID：200903077696128284

レーザ刻印方法

発明者： 清藤 哲生 ,  杉橋 敦史
出願人/特許権者： 新日本製鐵株式会社
代理人 (1件)： 田村 弘明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-263793
公開番号（公開出願番号）：特開平7-116869
出願日： 1993年10月21日
公開日（公表日）： 1995年05月09日
要約：

【要約】【目的】 金属、ガラス、プラスチック等の各種製品等に、種々のパターンを刻印する場合、パターンの大きさや形状に応じて、集光レンズを交換せずビーム集光径を調整することにより、容易かつ迅速に、視認性の高い刻印表示を得る。また、製造工程で深彫り刻印する場合、ビーム集光径を変えても、所要深さの深彫り刻印を得る。【構成】 集光レンズに入射する前のレーザビームを、2枚以上のレンズで構成されるビーム径調整光学系に透過させ、該光学系のレンズ間距離を調整することにより、刻印パターンを構成するドットまたは線密度に応じて、該ドット径または線幅を調整する。調整されたドット径または線幅に応じて、レーザビームの出力密度を調整する。

請求項（抜粋）：

集光レンズによりレーザビームを被加工物上に集光して刻印する方法において、集光レンズに入射する前のレーザビームを、2枚以上のレンズで構成されるビーム径調整光学系に透過させ、該ビーム径調整光学系のレンズ間距離を調整することにより、刻印パターンを構成するドットまたは線密度に応じて、該ドット径または線幅を調整することを特徴とするレーザ刻印方法。

IPC (7件)：

B23K 26/00 ,  B23K 26/04 ,  B23K 26/06 ,  B41J 2/44 ,  B41M 5/24 ,  G02B 26/10 104 ,  G02B 27/09

FI (2件)：

B41J 3/00 Q ,  G02B 27/00 E