特許
J-GLOBAL ID：200903077719477478
ビーム整形プリズムおよび光学系
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
増田 達哉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-073052
公開番号（公開出願番号）：特開平6-258505
出願日： 1993年03月08日
公開日（公表日）： 1994年09月16日
要約：
【要約】【構成】 本発明のビーム整形プリズム4は、所定の頂角θをなして対向する入射面41および出射面42を有しており、その構成材料の屈折率と頂角θとの組み合わせによって、入射面41から入射し、プリズム4内を透過して出射面42より出射した出射光20の横断面形状がほぼ円形に整形されるように設定されている。ビーム整形プリズム4の出射面42には、レーザー光の一部を透過し、一部を反射するハーフミラー面43が形成されている。このハーフミラー面43は、入射光22の光軸21と反射光23の光軸24とが一致しないように配置されている。【効果】 ビーム整形プリズムを含む光学系の構成を簡素化することができる。
請求項（抜粋）：
レーザー光束の横断面形状を整形するビーム整形プリズムであって、所定の頂角をなして対向する入射面および出射面の少なくとも一方に、レーザー光束の一部を透過し、一部を反射するハーフミラー面が形成され、前記ハーフミラー面へのレーザー光束の入射光およびその反射光のそれぞれの光軸が一致しないように用いられることを特徴とするビーム整形プリズム。
IPC (2件)：
引用特許：
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