特許
J-GLOBAL ID：200903077746418866
防汚剤
発明者：
,
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡辺 喜平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-001884
公開番号（公開出願番号）：特開2002-220581
出願日： 2001年01月09日
公開日（公表日）： 2002年08月09日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 油性原料に可溶であり、化学製造工場において汚れの生成を防止し、遊離基の重合反応の進行を抑制する防汚剤を提供する。【解決手段】 一般式1の化合物。[R1とR2は水素またはC1〜10のアルキル基、R3は水素またはC1〜6のアルキル基、連結基AはC1〜4のアルキル基で置換されてもよいフェニレン基または二価の有機基、Wはヒドロキシル基またはNR4R5(R4とR5は水素、C1〜6のアルキル基または一価の有機基である。)であり、nは1〜3の整数である。]この化合物は、一般式7のフェノール誘導体とホルムアルデヒドと一般式8のアミン誘導体を用いてアンニッヒ反応により製造される。
請求項（抜粋）：
下記一般式(1)で表わされる化合物であることを特徴とする防汚剤。【化1】[一般式(1)中、置換基R1およびR2は、相互に独立であり、水素原子または炭素数1〜10の直鎖状および分岐鎖状のアルキル基であり、置換基R3は、水素原子または炭素数1〜6の直鎖状および分岐鎖状のアルキル基であり、連結基Aは、炭素数1〜4のアルキル基で置換されてもよいフェニレン基または下記一般式(2)および一般式(3)で表される二価の有機基であり、記号Wは、ヒドロキシル基またはNR4R5(置換基R4およびR5は、相互に独立であり、水素原子、炭素数1〜6の直鎖状および分岐鎖状のアルキル基、または下記一般式(4)および一般式(5)で表される一価の有機基である。)で表される置換基であり、nは1〜3の整数である。【化2】[一般式(2)中、置換基R3は、前記一般式(1)の内容と同様であり、繰り返し数zは、1〜3の整数である。]【化3】[一般式(3)中、置換基R6およびR7は、相互に独立であり、水素原子または炭素数1〜6の直鎖状および分岐鎖状のアルキル基であり、繰り返し数mおよびxは、それぞれ1〜6の整数および0〜35の整数である。]【化4】[一般式(4)中、置換基R1およびR2は、前記一般式(1)の内容と同様である。]【化5】[一般式(5)中、置換基R1〜R3および連結基Aは、前記一般式(1)の内容と同様であり、繰り返し数yは1〜3の整数である。]]
IPC (2件)：
C09K 3/00 112
, C10G 75/04
C09K 3/00 112 Z
, C10G 75/04
