特許
J-GLOBAL ID：200903077747903903
振動片の製造方法、振動片、振動子、発振器及び電子機器
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡▲崎▼ 信太郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-326501
公開番号（公開出願番号）：特開2003-133875
出願日： 2001年10月24日
公開日（公表日）： 2003年05月09日
要約：
【要約】【課題】 電極部を正確に形成し短絡等の不良が生じ難い振動片の製造方法、振動片、振動子、発振器及び電子機器を提供すること。【解決手段】 振動片に金属膜を形成する金属膜形成工程(ST1)と、前記金属膜の上にフォトレジストを霧状に噴霧してフォトレジスト層を形成するフォトレジスト層形成工程(ST2)と、前記電極部の形成部分に対応するフォトレジストパターンを形成するフォトレジストパターン形成工程(ST3)と、前記フォトレジストパターン形成工程で形成されたフォトレジストパターンに対してレーザを照射してパターンの少なくと一部の形状を調整するパターン形状調整工程(ST4)と、前記フォトレジストパターンをマスクとして前記金属膜をエッチングにより除去し、前記電極部を形成する電極部形成工程(ST5)と、前記フォトレジストパターンを除去するフォトレジストパターン剥離工程(ST6)と、を備えることを特徴とする振動片の製造方法である。
請求項（抜粋）：
振動片に金属膜を形成する金属膜形成工程と、前記金属膜の上にフォトレジストを霧状に噴霧してフォトレジスト層を形成するフォトレジスト層形成工程と、前記電極部の形成部分に対応するフォトレジストパターンを形成するフォトレジストパターン形成工程と、前記フォトレジストパターン形成工程で形成されたフォトレジストパターンに対してレーザを照射してパターンの少なくと一部の形状を調整するパターン形状調整工程と、前記フォトレジストパターンをマスクとして前記金属膜をエッチングにより除去し、前記電極部を形成する電極部形成工程と、前記フォトレジストパターンを除去するフォトレジストパターン剥離工程と、を備えることを特徴とする振動片の製造方法。
IPC (3件)：
H03H 3/02
, H03B 5/32
, H03H 9/215
H03H 3/02 B
, H03B 5/32 H
, H03H 9/215
5J079AA04
, 5J079BA43
, 5J079HA03
, 5J079HA07
, 5J079HA09
, 5J079HA28
, 5J079HA29
, 5J108BB02
, 5J108CC06
, 5J108JJ04
, 5J108KK02
, 5J108MM14
