特許
J-GLOBAL ID：200903077758406707
光学素子の作製方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
野河 信太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-315369
公開番号（公開出願番号）：特開平11-149007
出願日： 1997年11月17日
公開日（公表日）： 1999年06月02日
要約：
【要約】【課題】 この発明は、光学素子の作製方法に関し、階段形状の階段の角を丸めることによって、より理論曲線に近い表面形状をもたせ、結像の効率を向上させることを課題とする。【解決手段】 階段形状の基板表面を有する光学素子の作製方法において、基板の表面上に、異方性エッチングによって複数段の階段を形成する階段形成工程と、前記階段形成工程で形成された階段の角を等方性エッチングによって丸める工程とを含んでなることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
階段形状の基板表面を有する光学素子の作製方法において、基板の表面上に、異方性エッチングによって複数段の階段を形成する階段形成工程と、前記階段形成工程で形成された階段の角を等方性エッチングによって丸める工程とを含んでなることを特徴とする光学素子の作製方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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