特許
J-GLOBAL ID：200903077776813832
X線分析装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
関 正治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-285095
公開番号（公開出願番号）：特開2000-111503
出願日： 1998年10月07日
公開日（公表日）： 2000年04月21日
要約：
【要約】【課題】 試料にX線照射して発生する電子量を低いS/Bの下、高い感度で測定して容易にXAFS解析をすることができるX線照射位置調整が簡単なX線分析装置を提供する。【解決手段】 分析チャンバー10の周壁を導電体で形成して接地すると共にアルゴンより軽い元素のみからなる絶縁物で内張り12をする。また、分析チャンバーは、試料20を載置する試料電極面22を、対向電極24までの距離が周壁11までの距離より電気的に近くなるように配設する。導電体11、電極22、24、導線23などはアルゴンより軽い元素で形成するようにすることが好ましい。
請求項（抜粋）：
分析チャンバー内に収納した試料にX線を照射してX線吸収に伴って発生する電子量を測定することにより試料を分析する装置であって、前記分析チャンバーが周壁を導電体で形成して接地すると共にアルゴンより軽い元素のみからなる絶縁物で内張りしたものであることを特徴とするX線分析装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (20件)：
2G001AA01
, 2G001BA04
, 2G001BA08
, 2G001BA09
, 2G001BA13
, 2G001CA03
, 2G001DA02
, 2G001GA13
, 2G001HA12
, 2G001JA07
, 2G001KA12
, 2G001PA02
, 2G001PA11
, 2G001PA12
, 2G001PA14
, 2G001PA15
, 2G001QA01
, 2G001QA10
, 2G001SA10
, 2G001SA30
