特許
J-GLOBAL ID：200903077782322280
描画用のビーム配列方法及びビーム発生装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-027896
公開番号（公開出願番号）：特開平7-232451
出願日： 1994年02月25日
公開日（公表日）： 1995年09月05日
要約：
【要約】【目的】 投射されたビーム像に傾き現象が発生したときにも、露光される走査線間にピッチムラが発生しにくいビーム配列方法とビーム発生装置。【構成】複数チャンネル1ch〜80chの2次元的に配列された光ビームをラスター走査することによって記録媒体に画像を描画する。複数チャンネル1ch〜80chの光ビームは、非対称な折返し配列1ch〜11chを一単位とする鋸の歯状の軌跡を有する配列方法によって配列されている。この場合、非対称な折返し配列1ch〜10chの折返し点6chを挟む一方側の仮想配列線1ch〜6chに沿って複数の光ビームが配置され、他方側の仮想配列線6ch〜11ch中に少なくとも1つの光ビームが配置されている。
請求項（抜粋）：
複数チャンネルの光ビームをラスター走査することによって記録媒体に画像を描画すべく、前記複数チャンネルの光ビームを非対称な折返し配列とするビーム配列方法であって、前記非対称な折返し配列の折返し点を挟む一方側の仮想配列線上と他方側の仮想配列線上とのそれぞれに少なくとも1つの光ビームが配置されていることを特徴とする描画用のビーム配列方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B41J 3/00 D
, H04N 1/04 104 Z
