特許

J-GLOBAL ID：200903077791885475

回転電極を用いた薄膜形成装置

発明者： 堂本 洋一 ,  平野 均 ,  蔵本 慶一 ,  樽井 久樹 ,  森 勇藏
出願人/特許権者： 三洋電機株式会社 ,  森 勇藏
代理人 (1件)： 目次 誠 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-344813
公開番号（公開出願番号）：特開平11-172449
出願日： 1997年12月15日
公開日（公表日）： 1999年06月29日
要約：

【要約】【課題】 回転電極1を用いる薄膜形成において、成膜速度を向上させ、均質な薄膜を形成する。【解決手段】 回転電極1と基板2の間に反応ガスを吹き付けるよう反応ガス供給管4が設けれていることを特徴としている。

請求項（抜粋）：

回転することにより基板表面の近傍を移動しながら通過する電極表面を有する回転電極に、高周波電力または直流電力を印加することによりプラズマを発生させ、該プラズマ中で反応ガスを分解させて基板上に薄膜を形成する薄膜形成装置において、前記回転電極と前記基板の間に前記反応ガスを吹き付けるように反応ガス供給管が設けられていることを特徴とする薄膜形成装置。

IPC (5件)：

C23C 16/50 ,  C23C 16/44 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46 ,  H05H 1/48

FI (5件)：

C23C 16/50 ,  C23C 16/44 D ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46 A ,  H05H 1/48

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特表平5-504373
  
• 回転電極を用いた高速成膜方法及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-201722   出願人：三洋電機株式会社, 森勇藏

審査官引用 (1件)

• 特表平5-504373