特許
J-GLOBAL ID：200903077799309414
非晶質シリカ粒状体及びその製法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 郁男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-351190
公開番号（公開出願番号）：特開平7-196310
出願日： 1993年12月28日
公開日（公表日）： 1995年08月01日
要約：
【要約】【目的】 多孔質でありながら、見掛比重が大きく、しかも粒子表面が滑らかで割れのない真球状の非晶質シリカ粒状体及びその製法を提供する。【構成】 ケイ酸アルカリ水溶液と酸水溶液とを反応させ、熱処理して得たシリカヒドロゲルをSiO2 濃度が15乃至25重量%となるスラリー濃度で、50°Cを越えない温度で且つ高速剪断下に湿式粉砕して、粒径が4μm以下のシリカヒドロゲルのスラリーを調製し、このシリカヒドロゲルのスラリーを噴霧乾燥するか、該シリカヒドロゲルのスラリーと沈降法非晶質シリカスラリーとの混合スラリーを噴霧乾燥して製造する。得られるシリカ粒状体は、表面が滑らかな粒径が20乃至100μmの真球状粒子で、見掛比重が0.2乃至0.5cc/g、細孔半径が1g乃至43500Åの範囲の細孔容積が0.5乃至3.5cc/g且つBET比表面が100乃至600m2 /gを有する非晶質シリカ粒状体である。
請求項（抜粋）：
ケイ酸アルカリ水溶液と酸水溶液とを反応させ、熱処理して得たシリカヒドロゲルをSiO2 濃度が15乃至25重量%となるスラリー濃度で、50°Cを越えない温度で且つ高速剪断下に湿式粉砕して、粒径が4μm以下のシリカヒドロゲルのスラリーを調製し、このシリカヒドロゲルのスラリーを噴霧乾燥することから成ることを特徴とする非晶質シリカ粒状体の製法。
IPC (2件)：
引用特許：
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