特許
J-GLOBAL ID:200903077799837291

膜厚測定方法および干渉膜厚測定装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 岡田 全啓
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-039855
公開番号(公開出願番号):特開2001-227916
出願日: 2000年02月17日
公開日(公表日): 2001年08月24日
要約:
【要約】【課題】 膜の屈折率に分散性がある場合に、膜厚を正確に測定することができる膜厚測定方法、および膜厚を正確に測定することができる干渉膜厚測定装置を得る。【解決手段】 干渉膜厚測定装置10は白色光源12を含み、白色光源12から試料膜16に光を照射する。試料膜16で反射した光をビームスプリッタ14で分光器18に導き、単色化するとともに、受光器20で電気信号に変換する。分光器18および受光器20の出力をデータ処理用コンピュータ22で処理し、試料膜の膜厚を算出する。膜厚の算出は、膜の屈折率の分散性を考慮した所定の算出式を用いることにより行う。
請求項(抜粋):
屈折率の分散性を有する膜の膜厚測定方法であって、前記膜に光を照射する工程、前記膜で反射した光から分光特性を測定する工程、および前記分光特性から前記膜の膜厚を算出する工程を含み、前記膜の膜厚をd、前記膜の屈折率をnf 、前記膜へ光が入射する側の媒質の屈折率をn0 、前記膜から透過光が出射する側の媒質の屈折率をn2 、振動する反射光の分光曲線の周波数をf、光の波長がλであるときに2π/λで表される波数をkとしたとき、次の数式1(数式1において、dθ/dkは数式2で表され、数式2において、αは数式3、βは数式4で表される)から膜厚dを求めることを特徴とする、膜厚測定方法。【数1】【数2】【数3】【数4】
IPC (2件):
G01B 11/02 ,  G01B 9/02
FI (2件):
G01B 11/02 G ,  G01B 9/02
Fターム (23件):
2F064AA00 ,  2F064CC10 ,  2F064EE08 ,  2F064FF03 ,  2F064FF07 ,  2F064GG00 ,  2F064HH01 ,  2F064HH05 ,  2F064JJ04 ,  2F064JJ15 ,  2F064KK04 ,  2F065AA30 ,  2F065BB00 ,  2F065CC31 ,  2F065DD00 ,  2F065FF51 ,  2F065GG02 ,  2F065GG24 ,  2F065JJ01 ,  2F065LL00 ,  2F065LL46 ,  2F065NN06 ,  2F065UU05

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