特許
J-GLOBAL ID：200903077804349365

膜形成用組成物、膜の形成方法およびシリカ系膜

発明者：
西川 通則

西川 通則 について

, 
山田 欣司

山田 欣司 について


出願人/特許権者：
ジェイエスアール株式会社

ジェイエスアール株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-157640
公開番号（公開出願番号）：特開2001-335745
出願日： 2000年05月29日
公開日（公表日）： 2001年12月04日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 低誘電率特性、酸素プラズマ耐性、PCT後のクラック耐性に優れたシリカ系膜が形成できる組成物を得る。【解決手段】 (A)、下記一般式(1)、(2)、(3)で表される化合物の群から選ばれた少なくとも1種の化合物と、下記式(4)で表される化合物とを加水分解、縮合してなる縮合物、及び有機溶媒からなる膜形成用組成物Ra(Si)(OR1)4-a・・・・・(1)Si(OR2)4・・・・・(2)R3b(R4O)3-bSi-(R7)d-Si(OR5)3-cR6c・・・・・(3)R8eM(OR9)f-e・・・・・(4)(式中RはH、F、又は一価の有機基、R7はO、フェニレン基又は-(CH2)n-、R8はキレート剤、Mは金属原子、R9は炭素数2〜5のアルキル基又は炭素数6〜20のアリール基、aは1〜2、b、cは0〜2、dは0または1、fは原子価、eは0〜f、nは1〜6の整数を示す。)
請求項（抜粋）：
(A)(A-1)下記一般式(1)で表される化合物、Ra Si(OR1 )4-a ・・・・・(1)(式中、Rは水素原子、フッ素原子または1価の有機基、R1 は1価の有機基、aは1〜2の整数を示す。)下記一般式(2)で表される化合物、およびSi(OR2 )4 ・・・・・(2)(式中、R2 は1価の有機基を示す。)下記一般式(3)で表される化合物 R3b(R4O)3-bSi-(R7)d-SiOR5)3-c R6c ・・・・・(3)〔式中、R3 〜R6 は同一または異なり、それぞれ1価の有機基、b〜cは同一または異なり、0〜2の整数、R7 は酸素原子、フェニレン基または-(CH2)n -で表される基(ここで、nは1〜6の整数である)、dは0または1を示す。〕の群から選ばれた少なくとも1種の化合物と(A-2)下記一般式(4)で表される化合物R8eM(OR9)f-e ・・・・・(4)(R8はキレート剤、Mは金属原子、R9はアルキル基またはアリール基を示し、fは金属Mの原子価、eは0〜fの整数を表す。)とを加水分解、縮合して得られる加水分解縮合物ならびに(A-2)有機溶媒を含有することを特徴とする膜形成用組成物。
IPC (6件)：
C09D183/00 ,  C08G 77/58 ,  C09D183/14 ,  C09D185/00 ,  H01L 21/312 ,  H01L 21/316
FI (6件)：
C09D183/00 ,  C08G 77/58 ,  C09D183/14 ,  C09D185/00 ,  H01L 21/312 C ,  H01L 21/316 G
Fターム (60件)：
4J035AA02 ,  4J035BA14 ,  4J035CA052 ,  4J035CA062 ,  4J035CA162 ,  4J035HA01 ,  4J035HA02 ,  4J035HA05 ,  4J035LB20 ,  4J038DL021 ,  4J038DL022 ,  4J038DL041 ,  4J038DL042 ,  4J038DL071 ,  4J038DL072 ,  4J038DL161 ,  4J038DL162 ,  4J038DM022 ,  4J038GA12 ,  4J038GA13 ,  4J038GA14 ,  4J038JA18 ,  4J038JA20 ,  4J038JA26 ,  4J038JA33 ,  4J038JA38 ,  4J038JA39 ,  4J038JA56 ,  4J038JB13 ,  4J038JB27 ,  4J038JB30 ,  4J038JB39 ,  4J038JC13 ,  4J038JC14 ,  4J038JC22 ,  4J038JC30 ,  4J038KA04 ,  4J038KA06 ,  4J038KA09 ,  4J038MA07 ,  4J038MA10 ,  4J038NA11 ,  4J038NA12 ,  4J038NA21 ,  4J038NA26 ,  4J038PA19 ,  4J038PB09 ,  5F058AA02 ,  5F058AA04 ,  5F058AC03 ,  5F058AF04 ,  5F058AG01 ,  5F058AH02 ,  5F058BA04 ,  5F058BA07 ,  5F058BC02 ,  5F058BC03 ,  5F058BF46 ,  5F058BH04 ,  5F058BJ02
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • 特開平3-020377
  • 膜形成用組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-331449   出願人：ジェイエスアール株式会社
  • 特開平3-020377

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