特許

J-GLOBAL ID：200903077819374803

セルローストリアセテートフィルム及びその製造方法

発明者： 江藤 雅弘 ,  植松 健二
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 柳川 泰男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-177386
公開番号（公開出願番号）：特開平7-011055
出願日： 1993年06月24日
公開日（公表日）： 1995年01月13日
要約：

【要約】【目的】光透過性に優れ且つ滑り性においても向上したセルローストリアセテートフィルムおよびその製造方法を提供する。【構成】セルローストリアセテートと、該セルローストリアセテート中に分散された表面にメチル基を有する微粒子からなることを特徴とするセルローストリアセテートフィルムおよびその製造方法。

請求項（抜粋）：

セルローストリアセテートと、該セルローストリアセテート中に分散された表面にメチル基を有する微粒子からなることを特徴とするセルローストリアセテートフィルム。

IPC (6件)：

C08L 1/12 LAF ,  C08L 1/12 LAG ,  B29C 41/12 ,  C08J 5/18 CEP ,  C08K 9/04 ,  B29K 1:00