特許
J-GLOBAL ID：200903077820058303
荷電粒子線転写用マスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
永井 冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-262280
公開番号（公開出願番号）：特開平8-124833
出願日： 1994年10月26日
公開日（公表日）： 1996年05月17日
要約：
【要約】【目的】 一括転写露光方式でもドーズ量が補正できるマスクを提供する。【構成】 荷電粒子線を通過させる第1の領域AR1と、荷電粒子線の散乱または吸収の程度が第1の領域AR1よりも大きい第2の領域AR2とを備えた荷電粒子線転写用マスクにおいて、感応基板のドーズ量分布を未処理時のドーズ量分布に対して変化させるドーズ量補正処理を第1の領域AR1および第2の領域AR2の少なくともいずれか一方に施す。ドーズ量補正処理としては、例えば第1の領域AR1内に荷電粒子線の散乱の程度が未処理時よりも大きい領域MSを形成する処理を用いる。
請求項（抜粋）：
荷電粒子線の散乱または吸収の程度が小さい第1の領域と、荷電粒子線の散乱または吸収の程度が前記第1の領域よりも大きい第2の領域とを備えた荷電粒子線転写用マスクにおいて、感応基板のドーズ量分布を未処理時のドーズ量分布に対して変化させるドーズ量補正処理が前記第1の領域および前記第2の領域の少なくともいずれか一方に施されていることを特徴とする荷電粒子線転写用マスク。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G03F 1/16
, G03F 7/20 504
, G03F 7/20 521
