ヒドラゾン化合物、錯体形成用ヒドラゾン化合物、金属錯体形成用配位子、及び高分子化合物製造用単量体

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (3件)：岸本達人 , 星野哲郎 , 山下昭彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-225268
公開番号（公開出願番号）：特開2009-057314
出願日： 2007年08月31日
公開日（公表日）： 2009年03月19日
要約：

【課題】簡便な操作及び工程で製造可能であり、触媒金属の微細分散を可能とする電極触媒原料化合物として有用なヒドラゾン化合物を提供する。【解決手段】下記一般式(1)で表されるヒドラゾン化合物、下記一般式(1)で表され、少なくとも1種の金属種に配位して金属錯体を形成する、金属錯体形成用ヒドラゾン化合物、並びに上記ヒドラゾン化合物によりなる金属錯体形成用配位子、及び高分子化合物製造用単量体。(式中、Pyは2-ピリジル基、3-ピリジル基又は4-ピリジル基を示す。)【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で表されるヒドラゾン化合物。

IPC (2件)：

C07D 213/77 , C08G 8/24

FI (2件)：

C07D213/77 , C08G8/24

Fターム (16件)：

4C055AA01 , 4C055BA01 , 4C055BA02 , 4C055BA52 , 4C055BB17 , 4C055CA01 , 4C055CA02 , 4C055CA52 , 4C055CB17 , 4C055DA01 , 4C055DA52 , 4C055DB17 , 4J033CA02 , 4J033CA13 , 4J033CA14 , 4J033CA25

引用特許：

出願人引用 (1件)

国際公開公報WO2004/036674号

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