特許

J-GLOBAL ID：200903077841238166

ポリオキシメチレン組成物および成形品

発明者： 工藤 正裕
出願人/特許権者： ポリプラスチックス株式会社
代理人 (1件)： 古谷 馨 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-025199
公開番号（公開出願番号）：特開平5-222268
出願日： 1992年02月12日
公開日（公表日）： 1993年08月31日
要約：

【要約】【目的】次亜塩素酸塩水溶液に対する耐性に優れたポリオキシメチレン組成物、およびかかる組成物を成形してなる成形部品、容器を提供する。【構成】(A) ポリオキシメチレン100 重量部に対し(B) ヒンダードフェノール系化合物0.01〜5重量部(C) 特定のリン化合物0.01〜5重量部(D) 特定の窒素又は金属含有化合物0.01〜5重量部を配合してなる次亜塩素酸塩水溶液に対する耐性に優れたポリオキシメチレン組成物、及び該組成物を成形してなる成形部品又は容器。

請求項（抜粋）：

(A) ポリオキシメチレン100 重量部に対し(B) ヒンダードフェノール系化合物0.01〜5重量部(C) 一般式(I) 又は(II)で表されるリン化合物0.01〜5重量部(D) 一般式(III) 又は(IV)で表される窒素化合物(D-1) 、一般式(V) で表される金属酸化物(D-2) 及び一般式(VI)で表される水酸化金属又はアルコキシ金属(D-3) から選ばれた1種以上の化合物0.01〜5重量部を配合してなる次亜塩素酸塩水溶液に対する耐性に優れたポリオキシメチレン組成物。【化1】(R1〜R5:水素、飽和又は不飽和の直鎖又は分枝したC1〜C20 のアルキル基、アルコキシ基、置換又は無置換のフェニル基、置換又は無置換のフェニルオキシ基)【化2】(R6〜R7:飽和又は不飽和の直鎖又は分枝したC1〜C20 のアルキル基R8:置換又は無置換のフェニル基、4-ヒドロキシ-置換フェニル、置換又は無置換の4-ピペリジニル基、置換又は無置換の3-ピロリジニル基、または水素X :飽和又は不飽和の直鎖または分枝したC1〜C20 のアルキレン基、尚、分子鎖中にエーテル、エステル結合があってもかまわない。またX は存在しなくてもよい)【化3】(R9〜R10 :飽和又は不飽和の直鎖又は分枝したC1〜C20 のアルキル基)【化4】(R11 〜R15 :飽和又は不飽和の直鎖又は分枝したC1〜C20 のアルキル基、置換又は無置換のフェニル基、尚、分子鎖中にエーテル、エステル、アミド結合等が存在してもかまわない)M1O (V)(M1:Mg、Ca、BaまたはZn)M2(OR16)m (VI)(M2:K 、Na、Mg、Ca、BaまたはZnR16 :C1〜C18 のアルキル基または水素m :1又は2)

IPC (8件)：

C08L 59/00 LML ,  C08J 5/00 CFA ,  C08K 3/22 ,  C08K 5/05 ,  C08K 5/13 ,  C08K 5/16 ,  C08K 5/49 ,  C08L 59:00

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平1-275652
  
• 特開昭63-159463
  
• 特開昭55-052338
  
• 特開昭60-093958