特許

J-GLOBAL ID：200903077845427397

薄膜形成方法

発明者： 川上 春雄
出願人/特許権者： 富士電機ホールディングス株式会社
代理人 (5件)： 奥山 尚一 ,  有原 幸一 ,  松島 鉄男 ,  佐藤 秀昭 ,  河村 英文
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-247726
公開番号（公開出願番号）：特開2006-066662
出願日： 2004年08月27日
公開日（公表日）： 2006年03月09日
要約：

【課題】 基板に結晶性有機材料薄膜を形成する方法において、結晶性有機材料薄膜を大面積で均一に形成する方法を提供する。【解決手段】 基板上に結晶性有機材料薄膜を形成する薄膜形成方法において、容器に入れた有機材料溶液に基板を浸漬する工程と、当該基板を有機材料溶液の液中から気相側へ移動する工程と、気相側にある基板上において基板に付着した有機材料溶液から当該結晶性有機材料薄膜が析出する工程と、を含み、当該基板に付着した有機材料溶液は、容器に入れた当該有機材料溶液と液相で連続していることを特徴とする薄膜形成方法。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

基板上に結晶性有機材料薄膜を形成する薄膜形成方法において、 容器に入れた有機材料溶液に基板を浸漬する工程と、当該基板を有機材料溶液の液中から気相側へ移動する工程と、気相側にある基板上において基板に付着した有機材料溶液から当該結晶性有機材料薄膜が析出する工程と、を含み、 当該基板に付着した有機材料溶液は、容器に入れた当該有機材料溶液と液相で連続していることを特徴とする薄膜形成方法。

IPC (5件)：

H01L 51/05 ,  C30B 29/54 ,  H01L 21/368 ,  H01L 29/786 ,  H01L 21/336

FI (6件)：

H01L29/28 ,  C30B29/54 ,  H01L21/368 L ,  H01L29/78 618B ,  H01L29/78 618A ,  H01L29/78 618Z

Fターム (17件)：

4G077AA03 ,  4G077BF10 ,  4G077CB08 ,  4G077EA02 ,  4G077HA02 ,  5F053AA03 ,  5F053AA36 ,  5F053DD19 ,  5F053FF01 ,  5F053GG10 ,  5F110AA30 ,  5F110DD01 ,  5F110DD02 ,  5F110DD05 ,  5F110GG05 ,  5F110GG24 ,  5F110GG42