特許
J-GLOBAL ID：200903077849982913
欠陥検査装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井上 義雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-044233
公開番号（公開出願番号）：特開平11-230917
出願日： 1998年02月12日
公開日（公表日）： 1999年08月27日
要約：
【要約】【課題】 ウェハの欠陥について定量的な情報収集が可能な欠陥検査装置を提供すること。【解決手段】 ウェハW1は、アライメントステージ51上に搭載された状態でマクロ検査ユニット21まで搬送される。マクロ検査ユニット21によって欠陥Dが検出された場合、コンピュータ本体41は、その欠陥Dがレビュー検査ユニット22の対物レンズ71の直下に位置するように、ウェハW2をアライメントステージ51とともに移動させる。レビュー検査ユニット22では、先の欠陥Dが所定の撮像倍率で撮像される。欠陥レビュー画像の取り込みが完了すると、ウェハW3上のID番号INがID情報検出ユニット23の対物レンズ81直下に位置するように、アライメントステージ51とともにウェハW3を移動する。制御装置の外部記憶装置には、マクロ検査画像、欠陥レビュー画像、欠陥位置データが保存される。
請求項（抜粋）：
試料全体を低倍率の撮像系を用いて撮像する低倍撮像装置と、前記低倍撮像装置によって得た低倍画像に基づいて前記試料上の欠陥を検出する欠陥検出装置と、前記欠陥検出装置で検出した前記欠陥を高倍率の撮像系を用いて撮像する高倍撮像装置と、前記低倍画像と前記高倍撮像装置によって得た高倍画像とを対応させて記憶するメモリーと有することを特徴とする欠陥検査装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G01N 21/88 E
, H01L 21/66 J
, H01L 21/66 Z
