エッチング部品の製造方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-124952
公開番号（公開出願番号）：特開平8-319584
出願日： 1995年05月24日
公開日（公表日）： 1996年12月03日
要約：

【要約】【目的】フォトリソグラフィー法を用い金属素材にてエッチング部品を製造する方法において、表面平滑なエッチング面を形成し、かつ、生産効率を向上させることを目的とする。【構成】板状の金属素材表面に所定のパターンに従って一部金属素材表面を露出させたレジスト膜を形成する工程と、塩化第二鉄液をエッチング液として用い、前記レジスト膜より露出した金属素材部位に選択的にエッチングを行う第一エッチング工程と、前記第一エッチング工程後に、液温が50〜70°C、ボーメ濃度が50以上の塩化第二鉄液をエッチング液として、前記第一エッチングで得られたエッチング面の整面および、第一エッチングでエッチング面に析出した金属の溶解除去を行う第二エッチング工程と、前記レジスト膜を剥膜する工程とを少なくとも具備することを特徴とするエッチング部品の製造方法。

請求項（抜粋）：

フォトリソグラフィー法を用いたエッチング部品の製造方法において、板状の金属素材表面に所定のパターンに従って一部金属素材表面を露出させたレジスト膜を形成する工程と、塩化第二鉄液をエッチング液として用い、前記レジスト膜より露出した金属素材部位に選択的にエッチングを行う第一エッチング工程と、前記第一エッチング工程後に、液温が50〜70°C、ボーメ濃度が50以上の塩化第二鉄液をエッチング液として用い、最終的に所望するエッチング形状にするとともに、前記第一エッチングで得られたエッチング面の整面および、第一エッチングでエッチング面に析出した金属の溶解除去を行う第二エッチング工程と、前記レジスト膜を剥膜する工程とを少なくとも具備することを特徴とするエッチング部品の製造方法。

IPC (2件)：

C23F 1/00 104 , C23F 1/16

FI (2件)：

C23F 1/00 104 , C23F 1/16

引用特許：

審査官引用 (5件)

リードフレームの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-062761 出願人：日立電線株式会社
リードフレームの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-062762 出願人：日立電線株式会社
特開平2-211691

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