特許

J-GLOBAL ID：200903077864704938

光学的形状測定装置

発明者： 大澤 康宏
出願人/特許権者： 株式会社リコー
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-195128
公開番号（公開出願番号）：特開2004-037272
出願日： 2002年07月03日
公開日（公表日）： 2004年02月05日
要約：

【課題】3次元光学的形状計測装置の照射装置において、照射装置の光学的ぼけに強いマルチスリット法に基づいた光学的形状計測装置を提供する。【解決手段】基線方向に対して異なる単調な強度分布を持つ2つの濃度パターン光と、同じく基線方向に対してマルチスリットパターン光を照射する照射手段と、照射された2つの濃度パターンとマルチスリットパターンの各々について、測定物体から反射された光の受光量と受光位置を取得する撮像手段と、2つの濃度パターンに対する受光量の比からマルチスリットパターンの各スリットの番号を推定し、得られたスリット番号とスリットの受光位置から、各スリット上で測定物体の形状を計算する形状計算手段からなることを特徴とする光学的形状測定装置を主たる構成にした。【選択図】 図10

請求項（抜粋）：

基線方向に対して異なる単調な強度分布を持つ2つの濃度パターン光と、同じく前記基線方向に対してマルチスリットパターン光を照射する照射手段と、照射された2つの前記濃度パターン光とマルチスリットパターン光の各々について、測定物体から反射された光の受光量と受光位置を取得する撮像手段と、2つの濃度パターンに対する受光量の比から前記マルチスリットパターン光の各スリットの番号を推定し、得られたスリット番号とスリットの受光位置から、各スリット上で測定物体の形状を計算する形状計算手段と、を備えたことを特徴とする光学的形状測定装置。

IPC (2件)：

G01B11/25 ,  G06T1/00

FI (2件)：

G01B11/24 E ,  G06T1/00 315

Fターム (36件)：

2F065AA06 ,  2F065AA14 ,  2F065AA20 ,  2F065AA53 ,  2F065BB05 ,  2F065DD04 ,  2F065FF01 ,  2F065FF02 ,  2F065FF04 ,  2F065FF09 ,  2F065FF41 ,  2F065GG24 ,  2F065HH06 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL22 ,  2F065LL28 ,  2F065LL37 ,  2F065NN05 ,  2F065QQ21 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ31 ,  5B057BA02 ,  5B057BA15 ,  5B057CA01 ,  5B057CA08 ,  5B057CA13 ,  5B057CA16 ,  5B057CB01 ,  5B057CB08 ,  5B057CB13 ,  5B057CB16 ,  5B057DB03 ,  5B057DB06 ,  5B057DC09