特許
J-GLOBAL ID：200903077865697021
レーザビーム整形用マスク及びレーザ加工装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田澤 博昭 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-232847
公開番号（公開出願番号）：特開平9-076086
出願日： 1995年09月11日
公開日（公表日）： 1997年03月25日
要約：
【要約】【課題】 高強度のレーザビーム整形を可能とするレーザビーム整形用マスクを得ること。【解決手段】 レーザ光の波長において透過性の高い屈折媒質にて形成された光分離部3を有し、該光分離部3に入射し偏向して該光分離部3から射出する射出レーザ光5aと開口部2を通過する通過レーザ光4とに分離可能に構成した。
請求項（抜粋）：
レーザ光を所定形状に整形して通過させる開口部を有したレーザビーム整形用マスクにおいて、該レーザビーム整形用マスクの少なくとも前記レーザ光が照射される範囲に該レーザ光の波長において透過性の高い屈折媒質にて光分離部を形成し、該光分離部に入射し偏向して該光分離部から射出する射出レーザ光と前記開口部を通過する通過レーザ光とに分離可能に形成したことを特徴とするレーザビーム整形用マスク。
IPC (3件)：
B23K 26/06
, G03F 1/08
, G03F 7/20 505
B23K 26/06 J
, B23K 26/06 C
, G03F 1/08 A
, G03F 7/20 505
