特許
J-GLOBAL ID：200903077873604466
低活性高分子成形品の表面処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
奥山 尚男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-101672
公開番号（公開出願番号）：特開平5-271444
出願日： 1992年03月27日
公開日（公表日）： 1993年10月19日
要約：
【要約】【目的】 有害物質を使用せずに簡単な処理操作により、被処理品の表面に均一に親水性を付与することのできるポリオレフィン系樹脂等の低活性高分子成形品の表面処理方法を提供する。【構成】 低活性高分子成形品の表面に、300nm以下の光を主波長に持つ低圧水銀ランプにより一定時間紫外線を照射し、次いで、上記低活性高分子成形品を低級アルコール中に光増感剤を一定両混入した溶液に接触させ、しかる後に、上記低活性高分子成形品の表面に300〜400nmの光を主波長に持つ中低圧水銀ランプおよび/または高圧水銀ランプにより紫外線を照射する。
請求項（抜粋）：
低活性高分子成形品の表面に、300nm以下の光を主波長に持つ低圧水銀ランプにより一定時間紫外線を照射し、次いで、低級アルコール中に光増感剤を一定量混入した溶液に上記低活性高分子成形品を接触させ、しかる後に、該低活性高分子成形品の表面に、300〜400nmの光を主波長に持つ中低圧水銀ランプおよび/または高圧水銀ランプにより紫外線を照射することを少なくとも含む低活性高分子成形品の表面処理方法。
IPC (2件)：
C08J 7/00 304
, C08J 7/00
