特許

J-GLOBAL ID：200903077888588564

電子線描画装置

発明者： 二宮 拓 ,  伊藤 博之 ,  角田 正弘
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-161413
公開番号（公開出願番号）：特開平10-012518
出願日： 1996年06月21日
公開日（公表日）： 1998年01月16日
要約：

【要約】【課題】実際に描画することなく転写マスクの劣化を監視し、IC製造の歩留まりを向上させる。【解決手段】電子線を電子レンズにより、拡大,縮小,偏向し、所定の図形となるように基板に描画する電子線描画装置において、前記電子線を遮蔽または、成形するために、転写マスクを有し、前記転写マスクの状態を監視する機能を備えたことを特徴とする電子線描画装置。

請求項（抜粋）：

電子線を電子レンズにより、拡大,縮小,偏向し、所定の図形となるように基板に描画する電子線描画装置において、前記電子線を遮蔽または、成形するために、転写マスクを有し、前記転写マスクの状態を監視する機能を備えたことを特徴とする電子線描画装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/305

FI (4件)：

H01L 21/30 541 B ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/305 B ,  H01L 21/30 541 S