特許
J-GLOBAL ID：200903077891801902
微細パターン複製物の作製方法及び微細パターン複製物
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
土井 育郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-093175
公開番号（公開出願番号）：特開2002-283530
出願日： 2001年03月28日
公開日（公表日）： 2002年10月03日
要約：
【要約】【課題】 コントラストのある分子レベルの微細な複製物を簡単に作製することができる微細パターンの複製方法及び複製物を提供する。【解決手段】 表面に凸状パターンを有する版に樹脂をコーティングし、その樹脂を前記版から剥離することにより前記樹脂からなる判子を作製し、疎水性単分子を分散させてなる分子インクを前記判子に付着させ、その分子インクの付着した判子を用いて基板上に疎水性分子の層からなる微細パターンを形成し、前記微細パターンの周囲の基板面に親水性分子を分散させてなる親水性分子溶液に浸漬することにより化学修飾を施す微細パターン複製物の作製方法において、前記親水性分子溶液として分子インク中の疎水性単分子の鎖長よりも短い鎖長を有する親水性単分子が分散された溶液を用いる。
請求項（抜粋）：
表面に凸状パターンを有する版に樹脂をコーティングし、その樹脂を前記版から剥離することにより前記樹脂からなる判子を作製し、疎水性分子を分散させてなる分子インクを前記判子に付着させ、その分子インクの付着した判子を用いて基板上に疎水性分子の層からなる微細パターンを形成し、前記微細パターンの周囲の基板面に親水性分子を分散させてなる親水性分子溶液に浸漬することにより化学修飾を施す微細パターン複製物の作製方法において、前記親水性分子溶液として分子インク中の疎水性分子の鎖長よりも短い鎖長を有する親水性分子が分散された溶液を用いることを特徴とする微細パターン複製物の作製方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (2件)：
引用特許：
引用文献：
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