特許

J-GLOBAL ID：200903077892410567

露光量制御装置、露光量制御方法、露光装置及び露光方法

発明者： 竹内 仁
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 恩田 博宣 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-322176
公開番号（公開出願番号）：特開2001-143992
出願日： 1999年11月12日
公開日（公表日）： 2001年05月25日
要約：

【要約】【課題】リアルタイムで基板上に照射される光量を把握することのできる露光量制御装置、露光量制御方法、露光装置及び露光方法を提供する。【解決手段】照明光学系19内の第1及び第3ミラー20a、20c、投影光学系31内のレンズエレメント32及び仕切り板34、並びにウエハWの温度をそれぞれ赤外線カメラ61〜63により計測する。その計測された温度に基づいて、前記各ミラー20a、20c、レンズエレメント32,仕切り板34及びウエハWの発熱量を求める。その発熱量から各ミラー20a、20cレンズエレメント32,仕切り板34上に堆積した異物等の影響を把握する。そして、その影響に基づいて、ウエハW上に照射される露光光ELの光量を把握する。

請求項（抜粋）：

光源からの照明光でマスク上に形成されたパターンを照明し、投影光学系を介して前記パターンの像を基板上に転写する際に、前記投影光学系の結像面上における前記照明光の露光量を制御する露光量制御装置において、前記光源から前記基板までの間の光路上に配置された物体の温度を計測する温度計測手段と、前記温度計測手段の計測結果に基づいて前記露光量を制御する制御手段とを設けたことを特徴とする露光量制御装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 C ,  H01L 21/30 516 D

Fターム (26件)：

5F046AA22 ,  5F046AA28 ,  5F046BA03 ,  5F046CA04 ,  5F046CB02 ,  5F046CB12 ,  5F046CB13 ,  5F046CB19 ,  5F046CB20 ,  5F046CB23 ,  5F046CB24 ,  5F046CC01 ,  5F046CC04 ,  5F046DA01 ,  5F046DA02 ,  5F046DA05 ,  5F046DA14 ,  5F046DA27 ,  5F046DB02 ,  5F046DB05 ,  5F046DB14 ,  5F046DC02 ,  5F046DC06 ,  5F046DC08 ,  5F046DC09 ,  5F046DD06