特許

J-GLOBAL ID：200903077902116816

投影露光装置

発明者： 早野 史倫
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-291019
公開番号（公開出願番号）：特開平6-140304
出願日： 1992年10月29日
公開日（公表日）： 1994年05月20日
要約：

【要約】【目的】 感光基板を露光する際にレジストから発生する物質が投影光学系の表面に付着するのを防ぐ。【構成】 感光基板10と対向する投影光学系の面を、結像特性に実質的に影響を及ぼさないペリクル3で覆う。このペリクルは交換可能に装着され、ペリクルに付着した物質からの散乱光を検出器15で検出することによってペリクルの交換を判定する。

請求項（抜粋）：

光束によってマスクを照明し、該マスクの像を投影光学系を介して感光基板上に投影露光する投影露光装置において、前記感光基板と前記投影光学系との間に交換可能に配置されるとともに、前記投影光学系の結像特性に実質的に影響を及ぼさず、前記感光基板から生じる物質が前記投影光学系に付着するのを防止する遮蔽部材と;前記遮蔽部材に付着した前記物質から生じる散乱光を検出する検出手段と;前記検出手段の検出結果に基づいて前記遮蔽部材の交換を判定する判定手段とを備えたことを特徴とする投影露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03B 27/32 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 311 L ,  H01L 21/30 311 S

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭63-020827
  
• 特開昭63-293917
  
• 特開平4-051239