特許
J-GLOBAL ID：200903077903258983
校正用被検査物およびその製造方法ならびに検査装置の校正方法および検査装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
筒井 大和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-280159
公開番号（公開出願番号）：特開平11-118677
出願日： 1997年10月14日
公開日（公表日）： 1999年04月30日
要約：
【要約】【課題】 環境異物等の影響を受けることなく、長期間に渡って正確な校正を行う。【解決手段】 ステージ5に載置された被検査物に光源1からの検査光2を走査して得られる反射光、散乱光、回折光、偏光光等を含む二次検査光3を、検査光学系6、検出器7、信号処理部8、検査データメモリ9、基準データメモリ10、差分回路11、閾値比較回路12、出力部13にて処理する検査装置の校正において、基板51の一主面に、意図的に作りこまれた複数の欠陥52aを有する欠陥パターン52を備え、この欠陥パターン52が、透明膜層53にて覆われた構造の校正用ウェハ50を用いる。透明膜層53の厚さは、検査光学系6の焦点深度の範囲外の値に設定され、透明膜層53の表面に付着する環境異物4は、検査結果、すなわち校正結果に影響しない。
請求項（抜粋）：
基板の一主面に、個数および位置およびサイズおよび形状および材質の少なくとも一つが既知の欠陥が形成された校正用被検査物であって、前記欠陥を覆う保護膜を備えたことを特徴とする校正用被検査物。
IPC (2件)：
G01N 1/00 102
, G01N 21/88
G01N 1/00 102 B
, G01N 21/88 E
