特許
J-GLOBAL ID：200903077903780990
位相型回折素子およびそのグレーティングパターン製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松岡 修平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-198272
公開番号（公開出願番号）：特開平10-026706
出願日： 1996年07月09日
公開日（公表日）： 1998年01月27日
要約：
【要約】【課題】 従来の位相型回折素子は、平面上にグレーティングパターンを形成しているため、機械刻線法により金型を形成する場合、3次元の方向に対してバイトと金型とを相対的に駆動制御しなければならず、時間、コストがかかる。【解決手段】 位相型回折素子10は、同一の曲率と方向性とを持つ第1、第2のシリンドリカル面11、13を有し、第1のシリンドリカル面11には、それぞれ円周方向に沿って延びる複数の基準位相パターンが形成されており、これらの基準位相パターンが母線方向に沿って並列することによりグレーティングパターン12が形成されている。
請求項（抜粋）：
基板上に互いに平行な複数の帯状の基準パターンを形成してグレーティングパターンを構成し、該グレーティングパターンにより入射光を回折させて複数の光束に分割する位相型回折素子において、前記基板は、前記グレーティングパターンが形成される面がシリンドリカル面とされ、前記複数の基準パターンは、シリンドリカル面の円周方向に沿って形成されていることを特徴とする位相型回折素子。
引用特許：
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