特許
J-GLOBAL ID:200903077906504080

固体撮像素子の層内集光レンズの形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 船橋 國則
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-246284
公開番号(公開出願番号):特開平11-087672
出願日: 1997年09月11日
公開日(公表日): 1999年03月30日
要約:
【要約】【課題】 固体撮像素子の層内集光レンズの上面を平坦に形成することが難しく、集光特性を劣化させる要因になっている。【解決手段】 基板11上に形成された凹状段差aの底面下に受光部11aを設けてなる固体撮像装置において、凹状段差aの内壁を覆う状態で形成されたリフロー膜16の表面部分を凸レンズ面とした層内集光レンズ17aを受光部11aの上方に形成する方法であって、リフロー膜16上に、リフロー膜16表面の段差よりも膜厚の厚い窒化シリコン系膜17を成膜する。窒化シリコン系膜17上に、表面平坦なSOG膜18を成膜する。エッチング選択比がほぼ等しい条件でSOG膜18及び窒化シリコン系膜17を全面エッチバックしてSOG膜18を除去し、窒化シリコン系膜17からなる層内集光レンズ17aを形成する。
請求項(抜粋):
基板上に形成された凹状段差の底面下に受光部を設けてなる固体撮像装置において、前記凹状段差の内壁を覆う状態で形成されたリフロー膜の表面部分を凸レンズ面とした層内集光レンズを前記受光部の上方に形成する方法であって、前記リフロー膜上に、当該リフロー膜表面の段差よりも膜厚の厚い窒化シリコン系膜を成膜し、前記窒化シリコン系膜上に、表面平坦なSOG膜を成膜し、エッチング選択比がほぼ等しい条件で前記SOG膜及び前記窒化シリコン系膜を全面エッチバックして当該SOG膜を除去し、前記受光部上方における前記リフロー膜上に当該窒化シリコン系膜からなる層内集光レンズを形成することを特徴とする固体撮像素子の層内集光レンズの形成方法。

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