特許

J-GLOBAL ID：200903077912586500

アミド化合物の製造方法

発明者： 小林 光治 ,  河原木 裕二 ,  手塚 真 ,  武脇 隆彦 ,  瀬戸山 亨
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-110374
公開番号（公開出願番号）：特開2000-302739
出願日： 1999年04月19日
公開日（公表日）： 2000年10月31日
要約：

【要約】【課題】 硫安の副生がなく、また高沸物などの副生を抑制しつつ、高転化率かつ高収率でアミド化合物を製造する方法を提供する。【解決手段】 液相中でオキシム化合物のベックマン転位反応を行うことによりアミド化合物を製造するにあたり、一般式MZs で表される構造を含む触媒の存在下で反応を行うことを特徴とするアミド化合物の製造方法。(式中、Mは、周期律表の1族〜15族からなる群より選択される元素であり、Zは、式- OSO2 Rで表されるアニオンであり、Rは、アルファ位の炭素が少なくとも2個のフッ素原子に結合したアルキル基であるか、あるいはスルホネート基に対してアルファおよびベータ位の炭素原子が一緒に少なくとも4個のフッ素原子に結合しているフッ素化ポリマーの1部であり、sはMの最高酸化数以下の自然数である。)

請求項（抜粋）：

液相中でオキシム化合物のベックマン転位反応を行うことによりアミド化合物を製造するにあたり、一般式MZs で表される構造を含む触媒の存在下で反応を行うことを特徴とするアミド化合物の製造方法。(式中、Mは、周期律表の1族〜15族からなる群より選択される元素であり、Zは、式- OSO2 Rで表されるアニオンであり、Rは、アルファ位の炭素が少なくとも2個のフッ素原子に結合したアルキル基であるか、あるいはスルホネート基に対してアルファおよびベータ位の炭素原子が一緒に少なくとも4個のフッ素原子に結合しているフッ素化ポリマーの1部であり、sはMの最高酸化数以下の自然数である。)

IPC (4件)：

C07C231/10 ,  B01J 31/12 ,  C07B 61/00 300 ,  C07D223/10

FI (4件)：

C07C231/10 ,  B01J 31/12 X ,  C07B 61/00 300 ,  C07D223/10

Fターム (16件)：

4C034DE03 ,  4H006AA02 ,  4H006AC27 ,  4H006AC53 ,  4H006BA05 ,  4H006BA07 ,  4H006BA08 ,  4H006BA11 ,  4H006BA28 ,  4H006BA29 ,  4H006BA52 ,  4H006BS10 ,  4H006BV21 ,  4H039CA42 ,  4H039CA71 ,  4H039CJ10