特許
J-GLOBAL ID：200903077913605886
レーザ描画装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
志賀 正武 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-338207
公開番号（公開出願番号）：特開平7-201703
出願日： 1993年12月28日
公開日（公表日）： 1995年08月04日
要約：
【要約】【目的】 パターンの解像度や形状等に関して良好な描画特性を得ることのできるレーザ描画装置を提供する。【構成】 レーザ発振器2から発射されるレーザ光の経路上に、レーザ光のスポットサイズを小さく絞り、焦点深度を増大させるアキシコンプリズム14およびリレーレンズ15が設置されている。また、レーザ光はこの後段に設置されたビームスプリッタ3で分岐され、AOM4で変調され、ステアリングミラー5で反射される。その後、ポリゴン7で走査され、対物レンズ10で収束されてステージ11に載置された試料12上に照射される。一方、データ処理・制御用コンピュータ16等が描画データの処理、前記各部の制御を行なう。
請求項（抜粋）：
レーザ発振器の後段に、レーザ光のスポットサイズを小さく絞るとともに、焦点深度を増大させる特性を有するアキシコンプリズム、またはリングフィルターからなる光学素子が具備されたことを特徴とするレーザ描画装置。
IPC (2件)：
引用特許：
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