光偏向素子、光偏向素子の製造方法及び画像形成装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：中島淳 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-003152
公開番号（公開出願番号）：特開平9-197448
出願日： 1996年01月11日
公開日（公表日）： 1997年07月31日
要約：

【要約】【課題】単純な構成で複数の光ビームにより形成される複数の走査線について所定間隔を維持させながら偏向する。【解決手段】基板54にステップ状に形成された複数の光導波路561 〜563 に入射される。これら複数の光導波路561 〜563 は略同一形状の光導波路が所定段差を有して形成される。レーザー光521 〜523 はコリメートレンズ581 〜583 でコリメートされ、電極601 〜603 の電圧印加による音響光学効果により偏向され、射出端面62Bから射出される。これらのレーザー光は各々同時に偏向(主走査)が可能であるので、ステップ状に形成された各光導波路に応じた同一方向に向く略平行な状態を維持したままの複数のレーザー光が射出される。

請求項（抜粋）：

薄膜で形成されかつ入射された光ビームを端部から射出する光導波路と、前記光導波路に入射された光ビームを偏向させる偏向手段と、を各々備えた複数の導波路と、前記複数の導波路の各偏向手段で偏向される光ビームの偏向方向の各々が略一致すると共に、当該偏向方向と交差する方向について異なる位置から光ビームが射出されるように前記複数の導波路の各々を設けた単一の基板と、を備えた光偏向素子。

IPC (3件)：

G02F 1/335 , B41J 2/44 , G02B 6/12

FI (4件)：

G02F 1/335 , B41J 3/00 D , G02B 6/12 K , G02B 6/12 J

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