特許
J-GLOBAL ID:200903077933018235

フォンウィルブランド因子の高分子および低分子フラクション

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 青山 葆 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-257467
公開番号(公開出願番号):特開平8-119997
出願日: 1995年10月04日
公開日(公表日): 1996年05月14日
要約:
【要約】【課題】 フォンウィルブランド因子を高分子および低分子フラクションに分別する方法を提供すること。【解決手段】 vWFを親和性支持体に結合させ、次いで異なった塩濃度で溶出させることを特徴とする、vWFを高分子vWFおよび低分子vWFに分別する方法。
請求項(抜粋):
vWFを親和性支持体に結合させ、次いで異なった塩濃度で溶出させることを特徴とする、vWFを高分子vWFおよび低分子vWFに分別する方法。
IPC (3件):
C07K 14/745 ,  A61K 38/43 ACA ,  C07K 1/22
引用特許:
審査官引用 (1件)

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