特許
J-GLOBAL ID：200903077936033340
光学素子およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大井 正彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-223704
公開番号（公開出願番号）：特開平5-045503
出願日： 1991年08月09日
公開日（公表日）： 1993年02月23日
要約：
【要約】【目的】 優れた反射防止性能および増反射防止性能を有し、高精度の光学系に対応可能で、しかも、クラックなどが発生しにくくて良好な耐久性を有する光学素子を提供することにある。【構成】 本発明の光学素子は、高分子樹脂製の基材と、この基材の表面に形成された前記基材とは異なる光学特性を有する表面層とよりなり、前記表面層は、プラズマ照射またはイオン照射により基材の表面が改質されて形成された改質層であることを特徴とする。また、表面層上に、更に表面被覆層が形成されていてもよい。本発明の製造方法は、イオン源から発生するプラズマまたはイオンビームを基材の表面に照射して表面層を形成する工程を含むことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
高分子樹脂製の基材と、この基材の表面に形成された前記基材とは異なる光学特性を有する表面層とよりなり、前記表面層は、プラズマ照射またはイオン照射により基材の表面が改質されて形成された改質層であることを特徴とする光学素子。
IPC (2件)：
引用特許：
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