特許

J-GLOBAL ID：200903077937142780

投影露光装置の検査方法

発明者： 千々松 達夫
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 岡本 啓三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-062333
公開番号（公開出願番号）：特開平9-257646
出願日： 1996年03月19日
公開日（公表日）： 1997年10月03日
要約：

【要約】【課題】 投影露光装置のレンズ系のコマ収差量を比較的簡単に且つ高精度で検出できる投影露光装置の検査方法を提供する。【解決手段】 一方向に所定のピッチで設けられた矩形状の透過部(パターン)1aを有するハーフトーン位相シフトマスク1によりフォトレジスト膜が被着された試験体にパターンを転写し、パターンの一方の側(A側)に定在波1個分の深さで膜減りが発生する露光量と、他方の側(B側)に定在波1個分の深さで膜減りが発生する露光量とを調べる。そして、このA側及びB側での露光量の差で投影露光装置のレンズ系のコマ収差を評価する。

請求項（抜粋）：

検査すべき投影露光装置によりハーフトーン位相シフトマスクのパターンをフォトレジスト膜が被着された試験体に転写し、前記試験体を現像処理した後、転写されたパターンの側方に発生するサイドピークによるレジスト膜の膜減りに基づいて前記投影露光装置のレンズ系のコマ収差量を検出することを特徴とする投影露光装置の検査方法。

IPC (3件)：

G01M 11/02 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G01M 11/02 B ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 Z