特許
J-GLOBAL ID：200903077950073266
X線マスク
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 守
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-086758
公開番号（公開出願番号）：特開平5-291120
出願日： 1992年04月08日
公開日（公表日）： 1993年11月05日
要約：
【要約】【目的】 X線マスクの吸収体(W,W-Ti)に高精度なパターン転写を可能にする。【構成】 X線吸収体3としてタングステンまたはタングステンとチタンの合金を用い、このX線吸収体の下層または上層に窒化チタンの薄膜9を備えたので、窒化チタンとタングステンとの大きなエッチング選択性を利用して、安定に微細加工が行える。
請求項（抜粋）：
X線吸収体としてタングステンまたはタングステンとチタンの合金を用いたX線マスクにおいて、上記X線吸収体の下層または上層に窒化チタンの薄膜を備えたことを特徴とするX線マスク。
IPC (2件)：
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