特許

J-GLOBAL ID：200903077953927827

偏光子を用いた偏光露光装置及び偏光マスクの製造方法

発明者： ウン・ソプ・グム
出願人/特許権者： ゴールド スター エレグトロン カンパニー リミテッド
代理人 (1件)： 山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-118566
公開番号（公開出願番号）：特開平5-188576
出願日： 1992年04月13日
公開日（公表日）： 1993年07月30日
要約：

【要約】【目的】 偏光板を用いた改良された露光装置と、このような露光装置を用いて偏光マスクを製造できる方法を提供するにその目的がある。【構成】 光を発生する光源(1)と、前記光源(1)の光を互いに異なるように偏光する一対の偏光板(6a)(6b)と、前記偏光板(6a)(6b)を介して偏光した光を集束する集光レンズ(2)と、前記集光レンズ(2)を介して集束した偏光の中、所望のパターンの光のみ通過する偏光マスク(3)と、前記偏光マスク(3)を通過する光を縮小してウェーハ(5)にパターンを形成するための縮小投影レンズ(4)と、からなる偏光子を用いた偏光露光装置。

請求項（抜粋）：

光を発生する光源(1)と、前記光源(1)の光を互いに異なる方向に偏光する一対の偏光板(6a)(6b)と、前記偏光板(6a)(6b)を介して偏光した光を集束する集光レンズ(2)と、前記集光レンズ(2)を介して集束した偏光の中、それぞれのパターンの光のみ通過する偏光マスク(3)と、前記偏光マスク(3)を通過する光を縮小してウェーハ(5)にパターンを形成するための縮小投影レンズ(4)と、からなる偏光子を用いた偏光露光装置。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平4-362949