特許
J-GLOBAL ID：200903077956865865
整合用マークと整合方法およびビームアニール装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
泉名 謙治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-096970
公開番号（公開出願番号）：特開平6-291075
出願日： 1993年03月31日
公開日（公表日）： 1994年10月18日
要約：
【要約】【構成】アモルファスシリコン層1Mを持つ被照射体1上の位置合わせパターン1Pが配置された整合用領域1Xにビーム照射し、アニールされた多結晶シリコンの予備アニール線10の位置ずれ量TLn、TRnを計測し、その平均が最小になるように、本加工時での最適な位置合わせするビームアニールにおける整合方法。【効果】高精度の位置合わせができ、ビームアニール方法で高い生産性と高い歩留りが得られる。
請求項（抜粋）：
ビームが照射されることで加工が行われる被照射体の表面領域の一部に形成され、本加工される領域との相対的な位置精度を備えたパターンから構成されることを特徴とする整合用マーク。
IPC (3件)：
H01L 21/268
, H01L 21/265
, H01S 3/00
