特許
J-GLOBAL ID:200903077964352729

三座配位子を含む金属錯体、およびそれを含む重合用触媒

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 川口 嘉之 ,  松倉 秀実 ,  和久田 純一 ,  遠山 勉
公報種別:再公表公報
出願番号(国際出願番号):JP2006300978
公開番号(公開出願番号):WO2006-078021
出願日: 2006年01月23日
公開日(公表日): 2006年07月27日
要約:
1)モノアニオン性三座配位子を含む、下記一般式(I)で示される錯体、2)該錯体を含む重合触媒を提供し、および3)該重合触媒を用いて分子量分布がシャープな高シス1,4-イソプレン重合体、高シス1,4-ブタジエン重合体、高シス1,4-イソプレン-スチレン共重合体、高シス1,4-ブタジエン-スチレン共重合体、高シス1,4-ブタジエン-高シス1,4-イソプレン共重合体、高シス1,4-ブタジエン-高シス1,4-イソプレン-スチレン共重合体を提供する。
請求項(抜粋):
モノアニオン性三座配位子を含む、下記一般式(I)で示される錯体。
IPC (4件):
C07F 19/00 ,  C07F 9/50 ,  C08F 4/52 ,  C08F 4/54
FI (4件):
C07F19/00 ,  C07F9/50 ,  C08F4/52 ,  C08F4/54
Fターム (16件):
4H048AA01 ,  4H048AB40 ,  4H048VA30 ,  4H048VA45 ,  4H048VA70 ,  4H048VB10 ,  4H049VN01 ,  4H049VP02 ,  4H049VQ97 ,  4H049VR24 ,  4H049VU33 ,  4H049VW02 ,  4H050AA01 ,  4H050AB40 ,  4J015DA04 ,  4J015DA37
引用特許:
出願人引用 (2件)

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