真空装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：井上一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-275370
公開番号（公開出願番号）：特開平5-275382
出願日： 1992年09月18日
公開日（公表日）： 1993年10月22日
要約：

【要約】【目的】減圧可能な空間への大気の流入を遮断し、排気時間を短縮できる装置を提供すること。【構成】パージブロック40は、真空室と大気とを仕切るゲートバルブ18のフランジ18aに固定されている。パージブロック40は、半導体ウエハの通路42を有し、この通路42の上方にパージボックス46を有する。パージボックス46の空間48と、通路42とは、第1〜第4のスリット50〜56を介して連通している。第1〜第3のスリット50〜54の鉛直軸に対する傾斜角度をそれぞれθ<SB>1 </SB>,θ<SB>2 </SB>,θ<SB>3 </SB>とした時、θ<SB>1 </SB><θ<SB>2 </SB><θ<SB>3 </SB>に設定される。この各スリット50〜54より、それぞれ半導体ウエハの移動経路と交差し、かつ大気側に向かう外向きのN<SB>2 </SB>ガスによるガスカーテンF<SB>1 </SB>〜F<SB>3 </SB>が形成される。第4のスリット56からのN<SB>2 </SB>ガスの流れF<SB>4 </SB>は、通路42内を大気よりも陽圧に設定する作用を強化するために用いられる。

請求項（抜粋）：

排気手段と、ガス供給手段と、大気との間に設けた開閉口とを有し、減圧可能な空間と大気との間で被搬送体を搬入又は搬出する真空装置において、前記開閉口よりも大気側に配置され、前記開閉口に続いて前記被搬送体の通路を設け、かつ、前記通路内にパージガスの噴出口を設け、パージガスにより前記通路内を大気よりも陽圧に設定することを特徴とする真空装置。

IPC (5件)：

H01L 21/302 , B01J 3/02 , C30B 25/14 , H01L 21/205 , H01L 21/31

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開昭59-224133
特開平3-175622
特公昭39-020989

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