特許
J-GLOBAL ID：200903077993456274
レジスト塗布方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-288531
公開番号（公開出願番号）：特開平6-140297
出願日： 1992年10月27日
公開日（公表日）： 1994年05月20日
要約：
【要約】【目的】 ウエハ内で定在波効果による寸法ばらつきの生じないレジスト塗布を行う。【構成】 基板1上にレジスト2を平坦部で所望の膜厚になるようスピン塗布、もしくは基板上にレジストを平坦部で所望の膜厚以上になるようにスピン塗布しレジスト膜が感光する線源を用いレジスト膜を現像後所望の膜厚になる露光量で全面露光を行なう。段差の溝部等レジストが他よりも厚く塗布される領域のみのレジスト膜を、現像後所望の膜厚になる露光量で選択露光し、現像液でレジスト膜を現像することにより基板全面に所望の膜厚でレジスト薄膜を形成する。【効果】 上記のことを行うことにより、ウエハ内で定在波効果による寸法ばらつきの生じないレジスト塗布を行うことができる。
請求項（抜粋）：
基板上にレジストを平坦部で所望の膜厚になるようにスピン塗布する工程と、段差の溝部等レジストが他よりも厚く塗布される領域のみの前記レジスト膜を、現像後所望の膜厚になる露光量で選択露光する工程と、現像液で前記レジスト膜を現像して基板全面に所望の膜厚でレジスト薄膜を形成する工程とを備えたことを特徴とするレジスト塗布方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/16 502
H01L 21/30 301 C
, H01L 21/30 361 D
