特許
J-GLOBAL ID:200903077997900039

表面モニター方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 後藤 洋介 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-083482
公開番号(公開出願番号):特開平8-254415
出願日: 1995年03月16日
公開日(公表日): 1996年10月01日
要約:
【要約】【目的】 観測が容易で、信頼性が高く、試料のデバイスとしての特性に悪影響を与えない薄膜の表面モニター方法を提供する。【構成】 波長240〜500nmの光を試料に照射する光源13と、試料からの反射光を分光する分光器15と、分光器の出力から反射率を求めるデータ処理部16とを有している。
請求項(抜粋):
半導体薄膜の表面に光を照射し、その反射光の光強度を測定して前記表面の凹凸を観測する表面モニター方法において、前記光として波長240〜500nmの光を用いることを特徴とする表面モニター方法。
IPC (5件):
G01B 11/28 ,  G01B 11/30 ,  H01L 21/66 ,  H01L 27/108 ,  H01L 21/8242
FI (4件):
G01B 11/28 Z ,  G01B 11/30 E ,  H01L 21/66 J ,  H01L 27/10 621 B

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