特許

J-GLOBAL ID：200903078000979737

敏感肌用の化粧料

発明者： 高取 正治
出願人/特許権者： ポーラ化成工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-003648
公開番号（公開出願番号）：特開2000-204014
出願日： 1999年01月11日
公開日（公表日）： 2000年07月25日
要約：

【要約】【課題】 敏感肌の化粧料を提供する。【解決手段】 硫酸基を有するムコ多糖類から選ばれる少なくとも1種以上と、エラスターゼ抑制剤とを含有する。【効果】 本発明によれば、敏感肌の人に用いた場合にも肌トラブルを起こさず、且つ肌荒れを顕著に改善できる。

請求項（抜粋）：

硫酸基を有するムコ多糖類から選ばれる1種乃至は2種以上と、エラスターゼ抑制剤とを含有することを特徴とする化粧料。

IPC (3件)：

A61K 7/00 ,  A61K 7/075 ,  A61K 7/48

FI (4件)：

A61K 7/00 J ,  A61K 7/00 K ,  A61K 7/075 ,  A61K 7/48

Fターム (38件)：

4C083AA011 ,  4C083AA012 ,  4C083AA072 ,  4C083AB232 ,  4C083AB242 ,  4C083AB432 ,  4C083AC012 ,  4C083AC022 ,  4C083AC102 ,  4C083AC122 ,  4C083AC132 ,  4C083AC212 ,  4C083AC392 ,  4C083AC422 ,  4C083AC432 ,  4C083AC442 ,  4C083AC482 ,  4C083AC642 ,  4C083AC782 ,  4C083AC792 ,  4C083AD302 ,  4C083AD311 ,  4C083AD312 ,  4C083AD342 ,  4C083AD411 ,  4C083AD492 ,  4C083BB51 ,  4C083BB60 ,  4C083CC01 ,  4C083CC04 ,  4C083CC05 ,  4C083CC12 ,  4C083CC38 ,  4C083DD23 ,  4C083DD31 ,  4C083EE10 ,  4C083EE12 ,  4C083FF05