微細パタ-ンの形成方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-150797
公開番号（公開出願番号）：特開平5-343370
出願日： 1992年06月10日
公開日（公表日）： 1993年12月24日
要約：

【要約】【目的】この発明は、光学系の分解能以下のピッチでパタ-ンを形成できる微細パタ-ンの形成方法を提供しようとするものである。【構成】被加工膜(14)上に順次、不活性な物質により成る第1の物質膜(16)、活性な物質により成る第2の物質膜(18)、不活性な物質により成る第3の物質膜(20)を形成する。次に、第2の物質膜(18)および第3の物質膜(20)をパタ-ニングする。次に、第1の物質膜(16)および第3の物質膜(20)を障壁として第2の物質膜(18)の側面のみを物質変化(18A) させ、膨脹させる。そして、第2の物質膜から物質変化しなかった部分(18)を除去して、第2の物質膜のうち物質変化した箇所(18A) だけを残す。これを、被加工膜(14)をパタ-ニングするためのマスクとする。このような方法であると第2の物質膜のパタ-ン1つから、被加工膜をパタ-ニングするためのマスクが2つ得られる。この結果、ピッチが光学系の分解能以下となるような被加工膜(14)でなる微細パタ-ンが得られる。

請求項（抜粋）：

被加工膜上に、不活性な物質により成る第1の物質膜を形成する工程と、前記第1の物質膜上に、活性な物質により成る第2の物質膜を形成する工程と、前記第2の物質膜上に、不活性な物質により成る第3の物質膜を形成する工程と、前記第2および第3の物質膜を一括してパタ-ニングする工程と、前記第2の物質膜の側面を物質変化させ、側面における第2の物質膜を膨脹させる工程と、前記第3の物質膜、および前記第2の物質膜のうちの物質変化が生じていない部分を除去する工程と、前記物質変化した第2の物質膜をマスクに、前記被加工膜をパタ-ニングする工程とを具備することを特徴とする微細パタ-ンの形成方法。被酸化性材料の

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