特許

J-GLOBAL ID：200903078007073709

エキシマレーザー光による孔加工法

発明者： 西川 正治
出願人/特許権者： オリンパス光学工業株式会社
代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-020175
公開番号（公開出願番号）：特開平5-015987
出願日： 1991年02月13日
公開日（公表日）： 1993年01月26日
要約：

【要約】【目的】 プラスチックシートの絶縁性を低下させることなく貫通孔を形成する。【構成】 複数の開口16を有する金属箔14が表面に形成されたプラスチックシート12に対して、金属箔14をマスクとしてエキシマレーザー光のビーム20を照射する。ビーム20はプラスチックシート12に対して相対的に移動される。貫通孔24は1回のビーム照射では形成されず、繰り返し何回も照射された後に形成される。

請求項（抜粋）：

開口を有する金属箔を表面に備えるプラスチックシートに対し、相対的に移動させながらエキシマレーザー光のビームを金属箔の開口を介して繰り返し照射してプラスチックシートに貫通孔を形成することを特徴とする、エキシマレーザー光による孔加工法。

IPC (6件)：

B23K 26/00 330 ,  B23K 26/06 ,  B32B 27/06 ,  B41J 2/415 ,  C08J 7/00 302 ,  H05K 3/00